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After Effects CC 2019, CC 2018, CC 2017, CC 2015.3, CC 2015, CC 2014, CC, CS6BAO Mask Avenger 2 – 单独控制蒙版顶点（和切线）
版本 2 中的新增功能
•保存 Ram 预览。以前版本最大的问题是 Ram 预览无效。
使用插件。新的 Mask Avenger 2.0 烘焙系统避免了这种情况。
•3D 蒙版Mask Avenger 现在可以控制 3D 蒙版，而无需使用 null 图层和表达式。
然后，掩码的计算速度更快，表达式更易于编写。
• 背景烘焙。当需要更换面具时，面具复仇者会立即将其转换为
当前时间，然后在后台烘焙工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作
而面具复仇者则忙着烘烤。这将替换 Dynamic 和 Bake 模式。
•形状图层的兼容性更好。与“动态”模式相关的错误在新烘焙食品中消失
系统。
•图层的工作区和持续时间不再影响 Mask Avenger 的计算速度。答案是肯定的
烘焙 100,000 个关键帧需要 10 多个时间，但新的烘焙系统可以正常工作
当它正在烘烤时。
•蒙版渲染器中不再需要。Mask Avenger 现在使用自己的 AE 隐藏功能，并且速度更快。
•蒙版预览。Mask Avenger 2.0 有一个预览系统，可以在更改之前动态地向您展示更改
应用于蒙版。这样可以避免在使用表达式、其他图层或摄像机更改蒙版时出现延迟。
单独控制蒙版的每个顶点
•关键帧、柔化、表情和 3D 空间。
•您可以只使用顶点，也可以完全控制切线。
•集成脚本可帮助您处理表达式并将蒙版与 Null 图层相关联。
•使用简单的 pick-whip 表达式将蒙版顶点与跟踪点相关联。
•使用冻结模式与没有 Mask Avenger 的用户共享您的项目。
•智能插值模式：根据重心或独立的关键锚点保留体积。
•与自由变换蒙版工具集成。
•蒙版读取器：读取蒙版路径上任何点的位置和方向。
•复仇者形状：将复仇者蒙版应用于图层形状。
• Mask Avenger 是原生的 After Effects 插件。
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